Quantax Micro-XRF
痕量元素灵敏度，样品制备最少
高速元素X射线映射甚至在大区域
膜厚度分析
하이라이트
10 ppm
检测极限
由于较低的光谱背景，启用痕量元素分析
4 mm/s
旅行速度
可选的快速阶段可以在大区域上进行高速映射
1 nm -40 µm
层厚度范围
可以分析从1 nm到多层结构的薄膜，可以分析40 µm的薄膜
Micro-XRF作为SEM中EDS分析的免费分析技术
- Micro-X射线荧光（Micro-XRF）光谱分析是使用扫描电子显微镜（SEM）对传统能量色散光谱（EDS）分析进行互补的非破坏性分析技术。此类分析对于表征未知样品中元素组成的表征至关重要，范围从大厘米大小的不均匀标本到小千分尺颗粒。
- X射线激发对痕量元素检测产生更高的灵敏度（低至低至10 ppm对于某些元素），扩展的X射线光谱范围（最多40 keV），以及样本中更深度的信息。
- 配备了X射线管与微焦X射线光学元件结合使用，可产生小尺寸30 µm高强度吞吐量。
- 一个模块化压电阶段，专门设计用于安装在现有SEM阶段顶部4毫米/秒。这使得可以在50 x 50 mm（或更高）的样本量中获取X射线映射数据，并在快速且用户友好的情况下包含光元素光谱数据以及跟踪元素和/或更高的能量X射线数据工作流程。
- X射线激发的较大深度允许从头开始表征多层系统1 nm，最多40 µm，电子激发是不可能的。
혜택
通过Micro-XRF和快速阶段扩展您的SEM分析功能
- 双光束电势，无论是电子束还是X射线束，为材料表征提供了新的可能性 - 同时研究样品。
- 使用同一检测器同时进行电子束/微XRF采集，并包含光元素光谱数据以及痕量元素和/或更高的能量X射线数据。
- Xtrace和快速阶段无缝集成在ESPRIT软件。
- 通过将电子激发的更好光元灵敏度与XRF的更好的痕量元素灵敏度相结合，将EDS和Micro-XRF定量结合起来，从而实现了更完整的样品表征。
- 与微XRF和电子束激发同时映射，结合了两者的优势。使用Micro-XRF的电子束和较重的元素激发光元素（碳含量）。
- 单独的峰和扩展光谱范围使能力能够看到高能K线，因为它们不那么复杂且重叠较低。
- 最低样品准备 - 无导电样品表面，无需大量抛光
- 无标准和基于标准的量化。
