半导体和纳米技术

Opto LED

Bruker的计量解决方案为生产监测和产量改进提供了准确且可重复的测量。

LED EPI层监视

HRXRD已很好地确定用于测量ePi层。布鲁克QCVELOX-E是LED监测中艺术领导者的状态,并且在整个行业中广泛使用。

QCVELOX-E启用完全自动化的高吞吐量HRXRD测量以及自动RAD分析并报告结果以使客户能够监视其流程而无需X射线专家来分析数据。可选的SECS-GEM工厂主机软件和机器人加载可用于完成系统的自动化。

Routine analysis of semiconductor substrates

改善图案蓝宝石底物的性能和产量

了解图案蓝宝石底物(PSS)的纳米级维度对于下一代材料开发和维持生产质量至关重要。bob综合游戏布鲁克的3D Optical Profilers提供PSS特征的高度,音高和直径的快速,准确的测量。

广泛的自动化功能可以使众多站点的操作员无关计量,因此可以很好地理解和控制晶片的过程变化。

此外,光学剖面andstylus profilers用于表征磷光层的粗糙度,厚度和形状,这些磷光层用于从下面的蓝色LED产生白光。这些特性对光转化的效率具有很大的影响,也会影响照明的颜色和均匀性。

PSS结构的亚纳米计量

As the pitch of patterned sapphire substrate goes below 2 microns, where optical techniques cannot achieve the resolution needed to provide valuable process metrology,原子力显微镜(AFM)提供准确的解决方案。它们提供了子纳米分辨率的分辨率,并能够测量将PSS制造过程控制在控制过程中所需的所有数据。

光电设备的谷物纹理和元素分析

在元素组成和晶体学特性中了解纳米到微米尺度的特征是了解现代光电设备的性能和行为的要求。Bruker提供了各种电子显微镜分析仪,以研究SEM和TEM系统上的这些特性。布鲁克的电子显微镜分析仪,例如Eds for SEMandTEM,,,,EBSD,,,,WDSandMicro-XRF,,,,allow the analysis of texture (EBSD) and the element distributions down to ppm with high spatial resolution and also in layered materials (Micro-XRF). Particularly fast analysis, such as needed in quality control or for large sample areas, is possible using a high collection angle device, such as the BrukerXFLASH®扁平探测器。

激光和LED发射,电致发光

FT-IR发射光谱是分析新型IR源,激光器,LED或电致发光的理想工具。研究系列FT-IR光谱仪的最高光谱分辨率允许完全解决激光模式。暂时分辨率向低NS范围的时间分辨测量可以使单个激光脉冲获得。利用锁定技术的幅度调节步骤扫描提供了记录非常弱排放信号的可能性。对于MM或µM范围的小发射器,适应研究光谱仪的IR显微镜同时为发射显微镜提供了出色的横向分辨率和最大敏感性。

FT-IR的检测器测试和表征

可以通过Bruker FT-IR研究光谱仪测试和表征自开发的红外探测器。单元探测器可以直接适应研究系列光谱仪的外部光学元件。为了表征焦平面阵列(FPA)探测器专用外部测量模块。