映射von schichtdickenvariedenen
Die Probe，Zwei Elektroden Auf Einem Glassubstrat，ISTEinPrüfkörperFüriepinduzierteelektrolyse。Sie Besteht Aus Einer Bimetall-Monolage Mit Einem Konzentrationsgradienten Entlang derOberfläche。Das Glassubstrat Wird Durch Magnetron-Sputtern Eines Kombinierten Cu-Al-Targets Beschichtet。
DaRöntgenstrahlen寄生DurchdringenKönnen，ErmöglichtDie RFA（XRF）IM Allgemeinen Die Bestimmung Von Schichtdicken。微XRF.Ermöglichtdie schichtanalyse（dicke und zusammensetzung）miträumlicherauflösungimmikromerbereich。Die Schichtanalyse Basiert Stark Auf der Elementaren FundaMentalParameter-Vartifizierung und Kann Durch Die Verwendung von StandardProben Vervessert Werden。SoKönnen“Gängige”Schichtsysteme，Wie Enepig-Schichten，Znni-Schichten Oder Lotschichten，Gegen LeichtVerfügbare标准Mit Hoher Genaurigkeit Gemessen Werden，Aucher Auch Neuartige Schichtsysteme在Einer F＆E-UmgebungKönnenGeteStet Werden。
die gesamteprobenflächevon 5 x 5cm²wurde mit einerräumlichenauflösungvon50μmbei 50 ms Messzeit Pro Pixel蒙普敦。Die ElementVerteilung der Schichtelemente Al und Cu Zeigt Deutlich Den Konzentrationsgenten。
Die Map-Daten Wurden在Bezug Auf Die Dicke Von Cu：Al Auf Si Mit Einem 5-Fachen Pixel-Binning Quantifiziert（Woraus Sich EineAuflösungvon250μmfürieChichtdicenceSeeERGIBT）。Fürsolche neuartigen probensysteme gibt es keine reglenzen，Daher Beruht Die Direfizierung Auf Foundalgaletern。Die Ergebnisse Stimmen Gut Mit Den Erwartungen des HersellersÜberein。