射频设备

pHEMT表征

pHEMT结构中外延层的监测

HRXRD已被广泛应用于薄膜层的测量。的力量QCVelox-E在epi监测方面处于领先地位,广泛应用于化合物半工业。其中一个关键应用是用于射频设备的pHEMT结构的外接层监控。这些结构包含InGaAs、AlGaAs和GaAs层的组合,单独的成分和厚度对性能至关重要。使用HRXRD可以在几分钟内精确测定这些参数,并进行全自动测量和RADS分析。

可选配SECS-GEM工厂主机软件和机器人加载,完成系统自动化。

III-IV异质结构的高分辨率x射线衍射

组成、应变状态和层厚是决定半导体器件性能的关键参数,如hemt或激光结构。
高分辨率x射线衍射是选择的分析方法,当涉及到以最高的精度确定这些参数。

布鲁克的XRD旗舰解决方案,D8 DISCOVER系列,配备了领先技术的x射线源和探测器,高分辨率光学和样品台,允许大的晶圆映射。
D8发现结合了XRD性能和易用性。自动化的测量和分析程序使其成为研究和工艺开发半导体异质结构的完美解决方案。