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外延膜是一种薄的涂层，厚度通常为nm，通常使用ALD(原子层沉积)，与基片相关的单晶结构。
外延薄膜形成了现代半导体技术的基础，处理过程中的细微差别导致器件性能的巨大变化。精确测量薄膜性质的能力至关重要。互易空间映射(RSM)与x射线衍射(XRD)是表征薄膜结构特性的首选技术，因为它能够测量垂直和横向应变、成分和畴效应。
