TriboLab CMP
研发规模的工艺和材料表征系统
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TriboLab CMP
TriboLab CMP利用其前身产品(Bruker CP-4)超过20年的CMP特性专业知识，为行业领先的TriboLab平台带来了一整套功能。由此产生的准确性和测量重复性使整个CMP过程所需的高效确认、检查和持续的功能测试成为可能。TriboLab CMP是市场上唯一的工艺开发工具，可以提供广泛的抛光压力(0.05-50 psi)，速度(1至500 rpm)，摩擦，声发射和表面温度测量，以准确和完整的表征CMP工艺和消耗品。
无与伦比的
小规模研发系统的投资回报率
该台式工具可在不停机的情况下再现全尺寸晶圆抛光工艺条件。
灵活的
参数控制
允许定制测试，以加速材料开发并精确优化流程。bob综合游戏
专家
应用程序和支持
我们与大型安装基地合作多年，为您的实验室提供专业知识。
的特性
小型研发规模的CMP专业系统
Bruker的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为可靠、灵活和经济高效的晶圆抛光工艺台架表征而设计的。
- 在生产设备上不停机的情况下，重现全尺寸晶圆抛光工艺条件
- 提供无与伦比的测量重复性和细节
- 允许在小型试片上进行测试，从而在整个晶圆测试中节省大量成本
车载诊断，更好地了解抛光过程
在TriboLab CMP测试仪上测试调理盘。测试确定了两组圆盘。摩擦系数试验与垫块磨损相关。
- 提供了更多的瞬态抛光性能比任何其他系统在市场上
- 从基板接触焊盘的瞬间以及整个测试过程中收集数据
- 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策
样品类型、尺寸和安装配置的灵活性
- 抛光任何平面材料，几乎使用任何调理阀瓣，任何浆液，任何垫
- 容纳小卷通过整个100毫米晶圆与轻松
- 可接受多个示例安装以提高灵活性
空调垫试验用CMP测试仪原理图