自动原子力显微镜计量

洞察法新社

第五代AFP具有业界最高的分辨率、最快的成型速度和快速的3D模具映射

在线计量

领先铸造厂和内存制造商的首选

洞察法新社

集锦

先进过程控制和开发的长期稳定性和生产率

InSight AFP是世界上性能最高、业界首选的先进技术节点CMP轮廓和蚀刻深度计量系统。its的组合现代尖端扫描仪凭借固有的稳定电容仪表和精确的空气轴承定位系统,可在模具的活动区域进行无损、直接测量。

0.3纳米
长期稳定性
提供NIST可追踪的参考计量,测量稳定性超过一年
260-340个站点/小时
内联应用程序的最高生产效率
减少MAM时间和优化的晶圆处理可保持高达50个晶圆/小时的吞吐量
高达36000微米/秒
仿形速度
通过热点识别提供高分辨率3D特征

艾格森沙夫滕

特征

最高分辨率,尖端寿命最长

InSight AFP的TrueSense®技术,具有原子力分析器经验证的长扫描能力。亚微米特征的蚀刻深度、凹陷和侵蚀可以完全自动化监控,具有无与伦比的重复性,无需依赖测试键或模型。这是独一无二的

过程

蚀刻和CMP晶片的全自动在线过程控制

Insight AFP结合了原子力显微镜的最新创新,包括Bruker专有的表征侧壁特征和粗糙度的CDM模式。CDmode减少了所需的横截面数量,实现了显著的成本节约。此外,AFP数据提供了无法通过其他技术获得的直接侧壁粗糙度测量。

增产

自动缺陷审查和分类

当今领先集成电路的器件缺陷比以往任何时候都小,需要快速解决HVM需求。InSight AFP提供了有关半导体晶片和PHTOmask缺陷的快速、可操作的地形和材料信息,允许制造商快速识别缺陷源并消除其对生产的影响。

100倍高分辨率配准光学元件和AFM全局对准使图案化晶圆和掩模的原始图像放置精度低于±250 nm,确保所关注的缺陷是测量的缺陷。

该系统与KLARITY和大多数其他YMS系统完全兼容。

研发

三维模具映射和HyperMap™

抛光后热点检查-扫描速度:26毫米/秒;扫描线数:33000

分析速度高达36000µm/sec,可实现快速、完整的3D CMP后表征和检查,以获得完整的33 mm x 26 mm闪光场和更大的闪光场。超2 nm的平面外运动,实现真正的大规模地形和全自动抛光后热点检测。

在本例中,以1微米x 1微米像素大小在24小时内获得完整、标准的26 mm x 33 mm十字线场扫描。然后可以使用Bruker的热点检测和审查功能自动检测和重新扫描热点。

安文顿根

应用

你的挑战是什么?

亚纳米谱灵敏度

先进过程控制

过程控制要求准确度、精密度和长期再现性;CMP工艺控制要求所有这些,同时保持对线前端、中段、后端和远端的现代抛光技术亚纳米形貌的敏感性。InSight AFP的皮米灵敏度可确保检测抛光后的残余形貌。使用2皮米计,长期,探头对探头的重复性和再现性,这是过程控制的可靠数据。
高深宽比深度计量

蚀刻高级过程控制

用于过程控制的蚀刻深度计量,一个简单、关键的ask;DTMode就是答案。DTMode是Bruker专有的自适应扫描模式,被证明具有深度计量AFM中最低的总测量不确定度(TMU)。DTMode的MAM时间小于10秒,可实现HVM蚀刻过程控制所需的深度计量。
NAND与功率器件

蚀刻工艺发展

量两次…。剪一次。计量作为过程开发的一部分比以往任何时候都更为重要。短回路、过程变量和复杂系统确实要求计量系统具有高度灵活性和适应性,同时保持关键的精度和精度要求。InSight AFP简单直观的配方界面通过XML/CAD界面实现了工艺开发的计量,该界面可在<5分钟内完成配方编写。
逻辑与存储器

化学机械抛光工艺开发

CMP工艺开发的计量要求速度、精度和精密度,同时允许稳健配方所需的灵活性。扩展范围的超平面扫描仪在整个105μm扫描范围内的平面外运动小于1nm,确保最低地形图的最高精度计量。将扩展范围、105μm扫描仪与大面积扫描模式相结合,可实现CMP工艺从10s nm发展到300 mm的计量。
新指标和新挑战

光刻EUV APC

向EUV光刻技术的过渡带来了许多必须监控的新计量指标。这些新指标之一是顶线粗糙度(LTR)。LTR确实与本文讨论的两种电阻的缺陷率和产量结果相关。具有较低LTR(平均9%)的抗蚀剂产生的断线缺陷明显较少,并且显示出更好的成品率(抗蚀剂B)。因此,开发后的LTR分析可用于新抗蚀剂配方的早期筛选,并有助于预测沥青和剂量依赖性性能以及产量预测。法新社的真知灼见™ 模式为无损顶线粗糙度EUV过程监控提供最高分辨率的AFM图像
无损混合计量

光刻EUV工艺开发

电子束抗收缩仍然是EUV抗蚀剂的一个问题。表征和理解抗蚀剂轮廓如何随ebeam曝光而变化,对于开发EUV工艺开发的最佳模型至关重要。法新社的真知灼见™ 模式是这一挑战的解决方案。真知灼见™ 依靠瞬时反馈实现皮克-牛顿力控制,确保最高精度、无损表面轮廓。测量暴露区域和未暴露区域表征抗蚀剂轮廓变化。这些额外的数据随后被输入计量工具包,以生成更好的模型,从而加快过程开发。这要求AFP和SEM测量相同的精确特征。这是通过XML接口和低于250nm的原始图像放置精度共享配方实现的。

支持

支持

我们能帮忙吗?

Bruker与我们的客户合作解决实际应用程序问题。我们开发新一代技术,帮助客户选择正确的系统和配件。这种合作关系将通过培训和扩展服务持续下去,直到工具售出很久。bob电竞官方网站

我们训练有素的支持工程师、应用科学家和主题专家团队致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训最大限度地提高您的生产力。bob电竞官方网站

康塔克

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