OPTIMUS 2
增强型TKD检测器头
Основныемоменты
布鲁克行业领先的TKD解决方案越来越好!
我们新的、增强的TKD解决方案建立在现有的轴上TKD无与伦比的性能基础上，通过添加多个新的硬件选项、附件和软件功能。最重要的变化是OPTIMUS 2探测器头的发布，这是与丹麦DTU Nanolab持续合作的结果。其新的成像能力和改进的设计结合新的和创新的软件功能将使:
- 原位实验的新分析能力
- 达到比以前更好的空间分辨率
- 卓越的数据质量和数据完整性
- 改善用户体验
- 对某些应用程序的生产力有很大的提高
OPTIMUS 2的关键特性
- OPTIMUS Vue屏幕，在其中心有一个硅二极管，用于类似亮场(BF)的成像
- 将电子束干扰降至最低的高级合金
- 在屏幕有源层结构中添加新薄膜以提高信号质量
- 优化的屏幕框架设计，以改善用户体验
- OPTIMUS 2将继续兼容标准TKD屏幕(没有中心二极管)
Преимущества
SEM中的STEM结合EDS和TKD制图
OPTIMUS Vue的中心二极管提供了类似于亮场(BF)的成像能力，同时在轴上TKD映射位置，为新的应用可能性铺平了道路，并进一步提高了纳米材料和纳米结构的整体系统性能。bob综合游戏
OPTIMUS Vue的SEM能力的新STEM的主要好处
- 提高空间分辨率通过OPTIMUS Vue的中心二极管，在获得TKD图之前，提供了优化光束聚焦和散光设置的理想条件。
- 接近实时的可视化在SEM原位实验过程中，使用新的ESPRIT TRM功能进行时间分辨测量时，对电子透明样品进行了分析。
- 改进的数据完整性-高质量和高细节的bf类图像是ESPRIT漂移校正特性所使用的图像相关算法的理想输入数据。漂移校正精度的增益对TKD图尤其有利，在TKD图中，即使只有几十纳米的光束或样品漂移也会在图中产生可见的伪影。
- 生产力的提高-类bf图像可以使用新的ESPRIT MaxYield特征进行二值化，然后作为掩模用于在稀疏样本(如纳米粒子或纳米棒)上有效映射感兴趣的区域。
- 方便、高效、成功在新ESPRIT FIL TKD（全浸式透镜TKD）功能的校准过程中，首次使用全浸式透镜模式（也称为超高分辨率（UHR）模式）对某些电子柱进行TKD映射。
图片由美国斯坦福大学的Aaron Lindenberg和他的团队提供
