薄膜厚度测定

用超薄薄膜的表面官能化和改性在许多应用领域中起重要作用，如生物污垢，传感器，腐蚀保护，催化等。这使得这种薄膜的彻底调查是强制性的，以了解和改善薄膜生长和功能。使用FTIR光谱化学识别薄膜和涂层的许多方法。

这些是透射率，衰减的总反射（ATR），对抗角度反射（GIR）或红外反射吸收光谱（IRRAS），极化调制的IRRAC（PMIrras.）。根据膜厚度，可以优先应用光学性能和支撑基板不同的测量模式。

由于X射线可能通过物质，X射线荧光（XRF）允许确定层厚度。使用SEM上的MICRO-XRF，层分析（厚度和组成）在千分尺规模处具有空间分辨率的可行性。层分析基于使用原子基础参数（FP）的量化。通过使用标准样品可以改善，因此可以通过FP研究各种类型的层系统，例如晶片上的金属化，多金属预处理涂层和太阳能电池。阅读更多

所有材料bob综合游戏都表现出入射在一定临界角度以下的X射线的总反射，使反射强度几乎与直接梁一样大。当测量X射线反射率（XRR）时，由于入射角增加，渗透到材料中会导致反射强度沉淀下降。因此，XRR数据可以跨越多个数量级。XRR是一种快速，无损的方式来测量薄膜涂层，多层和超图形的厚度，粗糙度和密度。该信息可以从镜面干涉图案中提取，并允许结晶和非晶膜的表征。

通常使用非破坏性X射线计量进行氮化镓（GaN）基质的表征。bob综合游戏宽带隙半导体，GaN及其In / Al等效的主要类别在许多新设备，如高电子迁移率晶体管（HEMTS），发光二极管（LED），激光二极管和薄的形式中的底板上使用电影外延层的范围从几nm到微米。器件性能经常与堆叠序列，层厚度，晶体结构和化学组成相关联。可以使用高分辨率X射线衍射（HRXRD）与X射线反射率（XRR），往复空间映射（RSM）等高分辨率X射线衍射（HRXRD）进行研究，以及高分辨率摇摆曲线（RC）。