半导体和纳米技术

缺陷和污染

Bruker提供一系列x射线产品,用于确定结晶缺陷和金属污染。

缺陷和污染

Bruker(以及之前的bede和Jordan Valley)是半导体行业数字x射线衍射成像(XRDI)的先驱,该技术用于识别导致晶圆破损的致命缺陷,并已扩展到识别其他衬底中可能影响衬底和器件产量的缺陷。布鲁克还为Si和SiC衬底提供TXRF系统,用于识别衬底上的金属污染,这对生产线的产量至关重要。对于离线检测,Bruker提供基于SEM和TEM的解决方案,包括能量色散x射线能谱(EDS),波长色散x射线能谱(WDS)和电子背散射衍射(EBSD)。