xSol고온스테이지
고온,대기제어특성
최대800°C이상의고온에서나노기계적특성화
xSol고온스테이지。
고온에서나노스케일기계적특성을이해하는능력은극한의작동환경에서안정적으로수행할수있는물질을개발하는데필수적입니다。力量xSol고온스테이지는최대800°C의고온에서정량적이고정확하며신뢰할수있는나노기계적특성을구현합니다。
장시간도시된xSol가열시스템의높은열안정성。
정량적및반복가능한결과를위한타의추종을불허하는안정성
독자적인무대디자인은낮은열팽창과열절연재료의독특한조합으로구성되어높은열안정성과짧은안정화시간을달성합니다。결투고정밀저항히터는독립적인피PID드백루프에의해제어되어시료의상단과하단을가열합니다。가열요소아키텍처는온도조절과균일성이엄격한스테이지내부의미세환경을형성합니다。독자적인프로브설계는이더스말팁샘플접점용전도성및복사팁가열을제공합니다。마이크로환경은산화와같은시료표면의반응성화학을방지하기위해맞춤형기체대기로제거될수있습니다。
XPM테스트후800°C에서촬영한실리콘의SPM이미지。
강력한특성화기술제품군과호환
Hysitron xSol단계는높은온도에서나노기계적및마찰학적행동에대한포괄적인지식을얻기위해브루커의현장에서SPM이미징,나노필딩,나노스크래치,나노웨어및나노DMA三世기술과호환됩니다。동적테스트는다양한테스트주파수및온도에서수행하여나노스케일양의재료에대한시간온도중첩연구를수행할수있습니다。나의노DMA三世기준주파수기술을활용하여장시간크리프측정을수행할수있습니다。xSol을XPM(가속특성매핑)과결합하면신속한테스트및지역화된재료특성이의도한작동온도를위해철저히특성화되고조정될수있습니다。
