나노DMA III -동적나노들여쓰기
나노스케일동적기계적분석
정량적나노스케일깊이프로파일링및점탄성특성측정
2 nm에서(100)알루미늄에CMX깊이프로파일- 110 nm。데이터의불연속성은나노기계적테스트중에발생하는탈구버스트때문입니다。
브루커의나노DMA III(나노스케일동적기계적분석)는나노스케일기계적특성측정을수행하는데사용되는강력한새로운동적테스트기술입니다。nanoDMA三世는새로개발된CMX제어알고리즘을갖추고있어재료표면에깊이의함수로서기계적특성을진정으로지속적으로측정할수있습니다。CMX는들여쓰기깊이,주파수및시간의함수로서경도,스토리지계달수,손실계수,복잡한계달수및황갈색델타를포함한기계적특성을정량적이고지속적으로측정합니다。
기준주파수크리프테스트기술을사용하여구리및시멘트에대한1시간크리프테스트。
강력한나노스케일동적특성화
고대역폭트랜스듀서및제어전자장치는나노스케일동적테스트에완전히최적화되어있으며업계최고의성능,감도및광범위한동적범위를제공합니다。Hysitron의독특한결합된AC / DC힘변조루틴은진정한나노스케일기계적특성화를가능하게하고다른나노스케일동적강성기술을괴롭히는느린피드백응답시간을거치지않습니다。나는노DMA三世실험과정에서열드리프트보정을위한고유한기준주파수기술을통합하여나노스케일에서장기간주파수스윕및크리프테스트를안정적으로수행할수있도록합니다。
