用于硅半导体的X射线计量学

JVX7300LSI

用于自动薄膜生产监测的多功能X射线衍射仪

In-fab R&D

JVX7300LSI

命运

JVX7300LSI

JVX7300LSI自动衍射仪设计用于半导体材料的内线研发和在线生产过程监测。bob综合游戏它可以在半导体行业中对许多高级材料进行全自动表征。bob综合游戏JVX7300L是标准配置,包括扫描HRXRD,XRR,XRD,GI-XRD和WA-XRD,用于应变计量,薄膜和毯子上的相位分析。该系统具有全自动源光学元件,即使在同一配方批处理中,系统也可以在没有用户干预的情况下进行切换。对齐,测量,分析和报告的完全自动化可确保薄膜的生产和快速表征。

高动态
范围
0D detector 1D, 2D, as option
水平
mounted
提供300mm,200mm和150mm晶片尺寸的薄膜快速表征。
完全自动化
来源光学
Enables unattended switching between standard XRD, high-resolution, and x-ray reflectivity modes.

Características

Features

主要特征

用于自动薄膜生产监测的多功能X射线衍射仪

  • XRR:厚度,粗糙度,薄膜和堆栈的密度
  • XRD(放牧发动机/广角):相位,结晶度,纹理,残余应力
  • 平面XRD:阶段,超薄膜的结晶度
  • HRXRD:应变,厚度,外延层的组成。

高通量

  • 高通量来源
  • 高动态范围0D检测器,1D,2D作为选项。

High resolution

  • 高角度分辨率性仪表
  • 低差异光学元件。

300-200-150mm晶圆,水平安装

完全自动化

  • 晶圆处理带有2个Foup负载端口
  • 配方驱动的工具配置更改包括。晶体和缝隙
  • 样品分析流 - 从对齐到报告
  • 秒/宝石。

行业领先的控制和分析软件RAD,参考

半S2 / S8, CE

aplicações

申请

关键应用程序

JVX7300LSI在全球范围内用于高级节点逻辑和内存晶圆厂。

Key applications are:

  • DRAM和NAND的高K厚度,密度和结晶度
  • III-V关于未来节点开发的SI
  • 在SI上使用电力晶体管

所有应用程序均由我们的全面分析软件套件启用,用于分析,模拟和拟合:RADS和REFS。

Acessórios

配件

选项和配件

S Channel

对于图案化晶片的测试结构的小点测量,可以添加S通道,该通道的斑点大小为50µm x 50 µm,在样品中。可以将通道配置为高分辨率光束,用于在外延层上用µhrxRD的应变测量,也可以将其用于晶体膜上的相,结晶度和方向测量值的µXRD光束。

S频道带有全自动模式识别。

I Channel

Phase and orientation monitoring on ultra-thin crystalline films is enabled with the optional I channel for in-plane XRD measurements.

apoio

Support

我们能帮你什么吗?

布鲁克partners with our customers to solve real-world application issues. We develop next-generation technologies and help customers select the right system and accessories. This partnership continues through training and extended service, long after the tools are sold.

我们训练有素的支持工程师,应用程序科学家和主题专家团队全力致力于通过系统服务和升级以及应用程序支持和培训来最大化您的生产率。bob电竞官方网站

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